潔凈小屋的溫濕度主要根據(jù)工藝要求確定，但在滿足工藝要求的條件下，必須考慮人的舒適度。隨著空氣清潔度要求的提高，技術(shù)對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)格。具體技術(shù)對溫度的要求今后必須列舉，但作為總體原則，加工精度越來越細(xì)致，對溫度變動范圍的要求越來越小。例如，在大型集成電路生產(chǎn)的光刻曝光技術(shù)中，作為口罩板材料的玻璃和硅片的熱膨脹系數(shù)差的要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，引起0.24um線性膨脹，需要±0.1度的恒溫，同時濕度值一般較低，人出汗后，對產(chǎn)品有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體現(xiàn)場，該現(xiàn)場不得超過25度。濕度過高引起的問題更多。如果相對濕度超過55%，冷卻水管壁會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路上，會造成各種意外。相對濕度在50%時容易生銹。另外，濕度過高時，通過空氣中的水分子將硅片表面附著的灰塵化學(xué)吸附在表面，難以去除。相對濕度越高，附著的東西越難去除，但相對濕度在30%以下時，由于靜電力的作用，粒子也容易吸附在表面，大量的半導(dǎo)體部件容易破壞。硅片生產(chǎn)的最佳溫度范圍為35-45%。